| 发明名称 |
Photoresist composition containing photo base generator with photo acid generator |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
GB0022375(D0) |
申请公布日期 |
2000.10.25 |
| 申请号 |
GB20000022375 |
申请日期 |
2000.09.13 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. |
发明人 |
|
| 分类号 |
C08F222/06;C08K5/02;C08K5/29;C08K5/32;C08K5/41;C08L35/00;C08L101/00;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/38;H01L21/027;H01L21/312 |
主分类号 |
C08F222/06 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
