| 发明名称 | 电子束光刻方法及其装置 | ||
| 摘要 | 在此公开一种用于利用电子束曝光和光刻所需图案的电子束光刻方法,其中包括如下步骤:(a)在条纹连接边界区域中形成多个精度估计图案和所需图案,以形成一个电子束掩膜;(b)用电子束掩膜光刻图案;(c)用精度估计图案测量曝光条纹的连接误差;(d)用电子束曝光该图案;以及(e)检查已经被曝光的图案的连接。 | ||
| 申请公布号 | CN1271176A | 申请公布日期 | 2000.10.25 |
| 申请号 | CN00103516.9 | 申请日期 | 2000.03.24 |
| 申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 中岛谦 |
| 分类号 | H01L21/027;H01L21/30;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱进桂 |
| 主权项 | 1.一种用于利用电子束曝光和光刻所需图案的电子束光刻方法，其中包括如下步骤：(a)在条纹连接边界区域中形成多个精度估计图案和一所需图案，以形成一个电子束掩膜；(b)用电子束掩膜光刻图案；(c)用精度估计图案测量曝光条纹的连接误差；(d)用电子束曝光这些图案；以及(e)检查已经被曝光的图案的连接。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||