RTP APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER MANUFACTURING

摘要

본 고안은 반도체 웨이퍼 제조용 급속열처리장치에 관한 것으로, 1개의 챔버(11) 내부에 여러개의 핫 플레이트(17)를 설치하고, 그 핫 플레이트(17)에 각각 냉각수라인(18)을 연결설치하여, 1회에 여러개의 웨이퍼(16)를 열처리함으로서, 대량생산공장에서의 생산성이 향상되는 효과가 있다.