PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET FOR USE AND REUSE IN THIN FILM VAPOR DEPOSITION, AND SPUTTERING VAPOR DEPOSITION TARGET,申请号KR1020000008424-传众专利搜索

发明名称	PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET FOR USE AND REUSE IN THIN FILM VAPOR DEPOSITION, AND SPUTTERING VAPOR DEPOSITION TARGET
摘要
申请公布号	KR20000062587(A)	申请公布日期	2000.10.25
申请号	KR1020000008424	申请日期	2000.02.22
申请人		发明人
分类号		主分类号
代理机构		代理人
主权项
地址