| 主权项 |
1.一种在一具有一第一室的真空处理系统中传送一基材的方法,其中一具有一组合臂的基材传送器将该基材送经在该第一室中的一轨道,该方法至少包含以下步骤:对被设置在该第一室中之至少一感应器光束在该基材之一所想要的轨道中的位置进行校准(calibrating);将该基材支 于该组合臂上;藉由让该基材通过至少一部分是被任意指定的路径上之感应器光束来触动该至少一感应器光束;当该至少一感应器光束被触动时,记录该组合臂的位置;计算该基材触动该至少一感应器光束之点,该点的位置系相对于该组合臂之一参考点;及计算相对于该组合臂参考点之该基材的中心位置。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该基材所通过的路径具有不是直线或圆形的段落。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中:该基材在其通过该等感应器光束时会干扰该至少一感应器光束;及该触动步骤在开始干扰及结束干扰该至少一感应器光束的点触动该至少一感应器光束。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中:该基材大致上是圆的;及该计算该基材的中心之步骤包括从多个在一圆上之点的座标计算该圆中心的步骤。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中:该计算该至少一感应器光束位置的步骤包括了实施一用来将该组合臂参考点与该至少一感应器光束对齐之回归(homing)程序的步骤;藉此可决定出该至少一感应器光束的位置。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其进而包含以下步骤:将该至少一感应器光束随机地置于该第一室中介于第一位置与第二位置间之所欲求的该基材轨道中,在该第一与第二位置间的该组合臂可持续地支 该基材。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中:该至少一感应器光束包含一个感应器光束。8.如申请专利范围第1项所述之方法,其中:该至少一感应器光束包含两个感应器光束。9.如申请专利范围第1项所述之方法,其中:该至少一感应器光束包含三个感应器光束。10.如申请专利范围第1项所述之方法,其进而包含的步骤为调整位于该欲求轨道中基材的中心位置。11.如申请专利范围第10项所述之方法,其中该基材所通过的路径具有不是直线或圆形的段落。12.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该真空处理系统包括一第二室,该方法进而包含以下步骤:调整在该所欲求轨道中基材的中心位置;及将该中心位置经过调整的基材插入该第二室中。13.如申请专利范围第12项所述之方法,其中该基材所通过的路径具有不是直线或圆形的段落。14.一种使用于一基材处理系统中之基材中心寻找设备,该处理系统具有一可用来移动一基材之组合臂的基材传送器,该基材中心寻找设备至少包含:至少一感应器光束,用以在该基材触动该至少一感应器光束时提供触动讯号;及一可被机器执行的程式,用来接收该触动讯号,接收来自于该基材传送器的位置资料及送出控制讯号至该基材传送器用以将该基材移动于一任一指定的路径中,该程式在接收到该触动讯号时记录该位置资料,计算与在该组合臂上一参考点相关连的基材边缘资料点,计算基材中心点并送出控制讯号给该基材传送器用以调整该路径。15.如申请专利范围第14项所述之基材中心寻找设备,其中该基材会移动通过的路径具有不是直线或圆形的段落。16.如申请专利范围第14项所述之基材中心寻找设备,其中该等基材边缘资料点为可粗略地界定出一圆的座标。17.如申请专利范围第14项所述之基材中心寻找设备,其中该至少一感应器光束系随机地位在该基材之一预期路径中。18.如申请专利范围第17项所述之基材中心寻找设备,其中:该程式能够送出一讯号至该基材传送器用以将该基材移动于该预期路径中;该程式决定该基材是否偏离该预期路径;及如果该程式决定该基材偏离的话,该程式能够送出一讯号至该基材传送器用以调整该基材的位置使到达该预期路径。图式简单说明:第一图a为先前技艺中用来寻找一基材中心之设备的上视图。第一图b为先前技艺中用来寻找一基材中心之另一设备的上视图。第二图a为一真空处理室的立体图。第二图b为一真空处理室的一上视示意图。第三图为一基材传送器的立体图。第四图为一基材及中心寻找系统的立体图。第五图为用来寻找一基材中心之一基材传送器及感应器的上视图。第六图一基材传送器组合臂的尖端及一基材的上视图。第七图为一基材及被用来计算该基材中心之点的上视示意图。 |
