| 主权项 |
1.一种挡土墙构造,其系将发泡树脂制之砌堆块件,沿着法面叠层来构筑者,其特征为;在砌堆块件形成向上下贯通之连通孔,不仅将该砌堆块件叠层,并且,在各砌堆块件之上下间填充土砂,并且,连通孔中也填充土砂,将土砂互相向上下方向连接,在叠层之砌堆块件前方竖设块件保护壁,在该块件保护壁后面与所叠层之砌堆块件前面之间填充入填充物。2.如申请专利范围第1项之挡土墙构造,其中砌堆块件系具有:前壁形成用块件,与在该前壁形成用块件之后端缘部卡合前端缘部载置成约略水平状态之板状块件,将这些块件向上方依序叠层,在向上下方向邻接之板状块件互相之间形成扁平之土砂填充空间,在各板状块件形成向上下方向贯通之连通孔,将填充入各土砂填充空间内之土砂由填充于各连通孔中之土砂向上下方向连接,在由前壁形成用块件所形成之前壁前方,将块件保护壁经由保护壁支持体安装,在该块件保护壁与前壁之间形成填充空间,在该填充空间内填充入填充物。3.如申请专利范围第2项之挡土墙构造,其中各板状块件之深度方向的宽,系形成为从下层向上层逐渐变成宽广。4.如申请专利范围第2项之挡土墙构造,其中在前壁形成用块件,系将卡止保护壁支持体所需之卡止沟向上下方向形成缺口,在各卡止沟插入保护壁支持体加以卡止,在左右方向邻接之保护壁支持体互相之间架设块件保护壁。5.如申请专利范围第1项之挡土墙构造,其中砌堆块件系具备:具有贯通上下方向之连通纵孔之前后一对纵壁,与架设于两纵壁之中央部间而在中央部具有贯通上下方向之连通孔之架设横壁所形成之基本块件,与具有贯通上下方向之连通纵孔之纵壁,与突设于该纵壁中央部在中央部具有向上下方向贯通之连通孔之突设横壁所形成之半割状块件,将基本块件之纵壁与半割状块件之纵壁向前后方向部分卡合成叠层状态,并且,在上下层之基本块件之纵壁间配置半割状块件之突设横壁向上方依序叠层,将形成于各基本块件前壁之连通纵孔,与将形成于各半割状块件之突设横壁之连通孔向上下方向连通,并且,将形成于各基本块件之架设横壁之连通孔,与将形成于各半割状块件纵壁之连通孔向上下方向连通,在上下方向连通之各孔中填充土砂,形成向上下方向延伸之土柱,在由位于最前列之纵壁与突设横壁所形成之前壁前方,将块件保护壁经由保护壁支持体安装,在该块件保护壁与各纵壁之间形成填充空间,而在该填充空间内填充入填充物。6.如申请专利范围第5项之挡土墙构造,其中配置于深度方向之基本块件与半割状块件之个数,系从下层向上层逐渐增多。7.如申请专利范围第5项之挡土墙构造,其中将在位于最前列之纵壁与突设横壁,在形成卡止保护壁支持体所需要之卡止沟向上下方向形成缺口,在卡止于卡止沟向左右方向邻接之保护壁支持体互相之间架设块件保护壁。8.如申请专利范围第1.2.3.4.5.6或7项之挡土墙构造,其中在填充空间内系填充入水密用填充物。9.如申请专利范围第1.2.3.4.5.6或7项挡土墙构造,其中沿着前壁前面配置隔离用介设体,在形成于该隔离用介设体与块件保护壁之间所形成之填充空间内填充入水密用填充物。10.如申请专利范围第9项之挡土墙构造,其中将隔离用介设体利用与块件同一发泡树脂材料来形成薄壁板状。11.如申请专利范围第1.2.3.4.5.6或7项之挡土墙构造,其中在挡土墙构筑现场舖设基础兼地版,在该基础兼地版上叠层砌堆块件,并且,在叠层之砌堆块件前方竖设块件保护壁,基础兼地版系将其前部较之块件保护壁向更前方形成隆起状。12.如申请专利范围第11项之挡土墙构造,其中基础兼地版系具备:埋设于挡土墙构筑现场之前后一对止水壁,与架设于两止水壁而露出于挡土墙构筑现场之顶壁,由这些止水壁与顶壁形成由侧面观察时呈门型的结构。13.如申请专利范围第11项之挡土墙构造,其中在基础兼地版上的略中央部载置块件保护壁,将该块件保护壁与基础兼地板之接合部,藉由止水材朝向前方密闭。图式简单说明:第一图系有关本发明之第1实施例之挡土墙之剖面侧面图。第二图系该挡土墙之部分截断正面图。第三图系该挡土墙之平面图。第四图系该挡土墙之保护壁体之平面图。第五图系前壁形成用块件与板状块件之斜视说明图。第六图系块件保护壁之正面图。第七图系该块件保护壁之平面图。第八图系该块件保护壁之背面图。第九图系该块件保护壁之侧面图。第十图系保护壁支持体之正面图。第十一图系该保护壁支持体之平面图。第十二图系该保护壁支持体之侧面图。第十三图系有关本发明之第2实施例之挡土墙之剖面侧面图。第十四图系该挡土墙之平面图。第十五图系前.后侧块件形成面之连结说明斜视图。第十六图系有关本发明之第3实施例之挡土墙之剖面侧面图。第十七图系该挡土墙之部分截断正面图。第十八图系该挡土墙之平面图。第十九图系基本块件与半割状块件之连结说明斜视图。第二十图系有关本发明之第4实施例之挡土墙之剖面侧面图。第二十一图系保护壁体之剖面侧面图。第二十二图系保护壁体之剖面平面图。第二十三图系挡土墙之力学性说明图。 |
