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经营范围
发明名称
IN SITU WAFER CLEANING PROCESS
摘要
申请公布号
EP1044468(A1)
申请公布日期
2000.10.18
申请号
EP19980965509
申请日期
1998.12.28
申请人
MEMC ELECTRONIC MATERIALS, INC.
发明人
WILSON, GREGORY, M.;LOTTES, CHARLES, R.
分类号
H01L21/304;H01L21/00;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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