发明名称 NITRIDING ALUMINIUM LAYER FORMING PLASMA PROCESS SYSTEM
摘要 <p>본 고안은 알루미늄 소재 표면의 산화막을 제거시킨 후 서로 다른 종류의 전원을 복합적으로 사용하여 질화 알루미늄 층을 형성시킴으로써 알루미늄 소재의 특성을 향상시킬 수 있도록 한 플라즈마 공정 시스템에 관한 것이다. 본 고안의 플라즈마 공정 시스템은 질화 반응이 일어나는 반응 용기내의 압력조절 및 유지를 위한 가스 배기 장치; 상기 반응 용기 벽과의 전위차에 의해 플라즈마가 발생되도록 상기 알루미늄 소재가 놓여있는 시료대에 직류 전원, 단극 펄스 직류 전원, 쌍극 펄스 직류 전원, 라디오 주파수 전원을 공급하는 전원 공급 장치; 상기 반응 용기에 상기 알루미늄 소재 표면의 산화막을 제거하기 위한 스퍼터링 가스 및 질화층 형성을 위한 반응 가스를 공급하기 위한 가스 공급부; 및 온도, 압력, 가스 조성, 유량, 플라즈마 전압, 펄스 주기, 공정 시간을 제어하기 위해 시스템 전체를 제어하는 제어부를 구비하여 이루어진다. 나아가, 플라즈마를 발생시키기 위해 출력 포트를 통해 상기 반응 용기에 마이크로 웨이브 전원, 전자 싸이클로트론 공명 전원을 공급하는 전원 공급 장치를 더 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.</p>
申请公布号 KR20000018302(U) 申请公布日期 2000.10.16
申请号 KR19990004232U 申请日期 1999.03.17
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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