| 主权项 |
1.一种用于平整基板(3)之涂布装置,此种基板(3)可选自以连贯法制成之平整的画面屏蔽用之玻璃平板,此种涂布装置具有两个平面电磁管型(Planar-Magnetron-Type)之喷镀阴极(4,5),此二阴极于一共同真空室(6)中相邻地配置,其靶(7,8)支撑于一与基板(3)之输送平面(9)平行之平面中,这些靶由相同材料(铬,Cr)所构成,此涂布装置又具有用于每一阴极(4,5)之进气淋洒装置(10,11),程序气体可各自经由淋洒装置引入所属靶(7或8 )之区域中,此处之程序气体由反应气体(通常为氧气)与惰气(通常为氩气)所组成,此涂布装置并有气阀设于气体管路中,这些气阀可使受控制之气流由气体贮存器流至气体淋洒装置(10,11),其特征为,直接在靶(7,8)下方之空间或区域(12或13)各别由槽形屏蔽箱(14或15)所围绕,其中此屏蔽箱(14,15)在其构成底部(14',15'之部份中具有开口(16,17),这些开口可各自限制其微粒流,其中每一屏蔽箱(14或15)在其大约垂直于靶平面而延伸之侧壁(14"或15")中具有空位(18,19)或成列的钻孔,这些钻孔分别对准气体淋洒装置(10或11)之出气孔(25,25',--,25[(B/d)+1],26,26',--,26[(B/d)+1)]),其中B是这些出气孔所配置之范围,d是二个相邻出气孔间之距离。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该气体淋洒装置(10或11)由至少一部份围绕槽形屏蔽箱(14,15)之管子所构成,该管子在屏蔽箱(14或15)之侧壁上(14"或15")之空位所面对的管子区段上可设有出气孔(25,25',25",--,25[(B/d)+1],26,26',26",--,26[(B/d)+1)]),这些出气孔允许气流直接进入屏蔽箱(14,15)所围绕之空间(12,13)。3.如申请专利范围第1或第2项之装置,其中每一气体淋洒装置(10或11)由三个管段(10',10",10" '或11',11",11" ')所构成,这些管段大约配置成U字形而此三管段(10',10",10" '或11',11",11" ')之每一中间段具有用于程序气体之出气喷嘴(25,25',25",--,25[(B/d)+1]或26,26',26",--,26[(B/d)+1])。4.如申请专利范围第3项之装置,其中气体淋洒装置(10,11)之具有出气喷嘴(25,25',25",--,25[(B/d)+1])之管段(10"或11")配置在两槽形屏蔽箱(14,15)之互相看不见的一侧。5.如申请专利范围第1或第2项之装置,其中槽形屏蔽箱(14,15)的侧壁(14"或15")中所存在之空位(18或19)各搭接叶片状或舌片状金属片(21或22),这些金属片各以其一端与侧壁(14"或15")稳固地连接,另一自由端斜向突入屏蔽箱之空间(12或13)中。6.如申请专利范围第3项之装置,其中槽形屏蔽箱(14,15)的侧壁(14"或15")中所存在之空位(18或19)各搭接叶片状或舌片状金属片(21或22),这些金属片各以其一端与侧壁(14"或15")稳固地连接,另一自由端斜向突入屏蔽箱之空间(12或13)中。7.如申请专利范围第4项之装置,其中槽形屏蔽箱(14,15)的侧壁(14"或15")中所存在之空位(18或19)各搭接叶片状或舌片状金属片(21或22),这些金属片各以其一端与侧壁(14"或15")稳固地连接,另一自由端斜向突入屏蔽箱之空间(12或13)中。图式简单说明:第一图本装置之侧面及局部纵切面图。第二图依据第一图的气体淋洒装置的外观。第三图两层包封之图解。 |
