| 主权项 |
1.一种粉末涂层装置,包括复数涂层组件(24),大致 彼此垂直叠置,用来同时排出粉末至以 一水平部份行经涂层组件的工件上,以及一监视装 置(32,34),用来检测分别流经涂层组件 (24)的粉末流。2.如申请专利范围第1项之粉末涂层 装置,其特征在一粉末供给线(30)的粉末路径伸延 至涂 层组件(24),一粉末输送装置与各涂层组件(24)相连, 且监视装置包含复数检测装置(34), 分别连接于涂层组件的粉末路径。3.如申请专利 范围第1或2项之粉末涂层装置,其特征在监视装置( 34)在行经至少一涂层组件 (24)之粉末流无法达到一预设値时即发出信号。4. 如申请专利范围第2项粉末涂层装置,其特征在监 视装置(32,34)检测流经涂层组件(24) 及/或其供给线(30)及/或其粉末输送装置的粉末流 所产生的摩擦静电压。5.如申请专利范围第1项之 粉末涂层装置,其特征在各涂层组件(24)的粉末路 径或其一部份 乃至于粉末输送装置绝缘,并经由一电流计量器(34 )接地。6.如申请专利范围第1项之粉末涂层装置, 其特征在监视装置包括速度计量器,用来计量行 经涂层组件(24)的粉末流速度。7.如申请专利范围 第6项之粉末涂层装置,其特征在速度计量器包括 二计量用电极,循粉末 路径相隔配置,用来检测所输送粉末流在粉末路径 中产生的负载变化,并根据所检测负载变 化测定粉末流速度。8.如申请专利范围第2项之粉 末涂层装置,其特征在监视装置包括诸计量器,用 来计量各段 粉末路径中每单位体积的粉末质量。9.如申请专 利范围第8项之粉末涂层装置,其特征在质量计量 器包括一微波谐振器以及检测 微波谐振器的谐振频率及/或微波振幅变化与由所 检测谐振频率及/或微波振幅求得粉末路 径段中的粉末质量。10.如申请专利范围第8或9项 之粉末涂层装置,其特征在监视装置包括一电脑, 用来根据所 计量速度,所计量每单位体积的粉末质量以及粉末 路径大小,计算粉末流质量。11.如申请专利范围第 1项之粉末涂层装置,其特征在大致相互垂直叠置 的涂层组件(24)固定 ,且工件水平导经此等组件。12.如申请专利范围第 1项之粉末涂层装置,其特征在大致相互垂直叠置 的复数涂层组件(24) 一起垂直移动,且工件水平导经此等组件。13.如申 请专利范围第1项之粉末涂层装置,其特征在具有 一可垂直移动的增设涂层组件,可 取代一经检测粉末流不足的另一涂层组件。14.如 申请专利范围第1项之粉末涂层装置,其特征在具 有一在检测出涂层组件的粉末流不足 时进行粉末涂层装置操作停止的装置。15.一种粉 末涂层装置监视方法,此涂层装置系包括复数个大 致相互垂直叠置并大致同时排 出粉末至一工件的涂层组件(24)者,包括以下步骤, 即工件行经涂层组件,监视分别流经涂 层组件的粉末流,并在行经至少一涂层组件的粉末 流无法达到预设値时发出一信号。图式简单说明: 第一图显示习知粉末涂层装置; 第二图显示本发明粉末涂层装置;以及 第三图显示一粉末涂层组件静电压之电路。 |
