| 发明名称 | 用于改善临界尺寸控制的抗反射涂层 | ||
| 摘要 | 这里介绍了一种减小抗蚀剂反射率的ARC。该ARC包括第一和第二部分。第一部分以吸收模式起作用,第二部分能够减小抗蚀剂和第一ARC部分间折射率的差,因而改善了CD控制。 | ||
| 申请公布号 | CN1269532A | 申请公布日期 | 2000.10.11 |
| 申请号 | CN00104809.0 | 申请日期 | 2000.03.27 |
| 申请人 | 因芬尼昂技术北美公司 | 发明人 | D·特本;G·Y·李;Z·卢 |
| 分类号 | G03F7/09 | 主分类号 | G03F7/09 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 梁永;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种减小平版印刷中抗蚀剂反射率的方法，包括：在衬底上淀积抗反射涂层(ARC)；及在ARC上淀积抗蚀层，其中ARC包括第一和第二部分，第一部分以吸收模式起作用，第二部分具有能够减小第一部分和抗蚀剂间折射率差的折射率。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||