发明名称 |
半导体器件及其制造方法 |
摘要 |
一种覆盖半导体器件衬底(10)的互连。在一个实施例中,导电势垒层覆盖部分互连,钝化层(92)覆盖导电势垒层,且钝化层(92)具有暴露部分导电势垒层(82)的窗口。在一个变通实施例中,钝化层(22)覆盖互连,钝化层(22)具有暴露互连的窗口(24),且导电势垒层(32)覆盖窗口(24)中的互连。 |
申请公布号 |
CN1269607A |
申请公布日期 |
2000.10.11 |
申请号 |
CN00104927.5 |
申请日期 |
2000.04.04 |
申请人 |
摩托罗拉公司 |
发明人 |
亚力山大·L·巴尔;苏勒士·梵卡特散;戴维·B·克勒格;勒波卡·G·考尔;奥鲁布恩米·阿德突突;斯杜尔特·E·格力尔;布瑞安·G·安舍尼;拉姆那施·凡卡特拉曼;格勒帼·布雷科尔曼;道格拉斯·M·勒博;斯蒂芬·R·克朗 |
分类号 |
H01L23/522;H01L21/768;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L23/522 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种半导体器件,其特征是:覆盖半导体器件衬底(100)的第一互连(114);覆盖第一互连(114)的绝缘势垒层(122);覆盖部分第一互连(114)和部分绝缘势垒层(122)的键合焊点互连(128);覆盖部分键合焊点互连(128)的导电势垒层(82),此导电势垒层(82)延伸到部分键合焊点互连(128)的边沿区以外;以及覆盖导电势垒层(82)的钝化层(92),此钝化层(92)具有暴露部分导电势垒层(82)的窗口。 |
地址 |
美国伊利诺斯 |