发明名称 微透镜阵列基片及其制造方法和显示器
摘要 一种微透镜阵列基片的制造方法,包括以下步骤:形成基片(32)的步骤,所述基片具有带多个曲面部(12)的第1原板(10),和带多个凸部(22)的第2原板(20),和在它们之间紧贴基片前身(30),由所述曲面部(12)形成的多个透镜(34),和由凸部(22)形成的多个凹部(36);从所述基片(32)剥离所述第1以及第2原板(10、20)的步骤;至少在剥离所述第2原板(20)之后,在所述凹部(36)填充遮光材料的步骤。
申请公布号 CN1269018A 申请公布日期 2000.10.04
申请号 CN99800721.8 申请日期 1999.05.10
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 西川尚男
分类号 G02B3/00 主分类号 G02B3/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 姜郛厚;叶恺东
主权项 1.一种微透镜阵列基片的制造方法,包括以下步骤:形成基片步骤,所述基片具有带多个曲面部的第1原板,和带多个凸部的第2原板,和在两个原板之间紧贴基片前身,由所述曲面部形成的多个透镜,和由所述凸部形成的多个凹部,从所述基片剥离所述第1以及第2原板的步骤;至少在剥离所述第2原板之后,在所述凹部填充遮光材料的步骤。
地址 日本东京都