| 发明名称 |
Ternary gaseous mixture |
| 摘要 |
A plasmagenic gas comprising a ternary mixture of helium, argon and hydrogen. The gas contains less than 30% helium, at least 55% argon, and from 5.5 to 15% hydrogen. The gas is useful in a thermal treatment process, such as the plasma projection of a refractory or metallic material.
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| 申请公布号 |
US6126858(A) |
申请公布日期 |
2000.10.03 |
| 申请号 |
US19980207421 |
申请日期 |
1998.12.08 |
| 申请人 |
L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE |
发明人 |
GOURLAOUEN, VINCENT;REMY, FRANCOIS |
| 分类号 |
C01B3/02;H05H1/42;(IPC1-7):C06D15/00;C09K3/00 |
主分类号 |
C01B3/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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