Sulfoniloximas para fotorresistores i-line de alta sensibilidade e espessura de alta resistência

摘要

Patente de Invenção: <B>SULFONILOXIMAS PARA FOTORRESISTORES I-LINE DE ALTA SENSIBILIDADE E ESPESSURA DE ALTA RESISTêNCIA"<D>. Uma composição que pode ser ativada por luz, compreendendo pelo menos um composto que possa ser reticulado pela ação de um ácido e/ou de pelo menos um composto que altere sua solubilidade sob a ação de um ácido e como fotoiniciador pelo menos um composto gerador de um ácido sulfónico sob a exposição de luz de um comprimento de onda entre 240 e 390 nm tendo um coeficiente de extinção molar <sym> inferior a 10 a i-line (365 nm) são especialmente adequados para o preparo de fotorresistores negativos e positivos, placas de impressão, materiais de gravação de imagem ou filtros de cor.