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发明名称 METHOD FOR METALLIZATION BY DUAL DAMASCENE PROCESS USING PHOTOSENSITIVE POLYMER
摘要
申请公布号 KR100265771(B1) 申请公布日期 2000.10.02
申请号 KR19980027664 申请日期 1998.07.09
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 SHIN, HONG JAE;KIM, BYEONG JUN
分类号 H01L21/302;G03F7/027;H01L21/28;H01L21/3065;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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