| 发明名称 |
FABRICATION PROCESS OF A STACK TYPE SEMICONDUCTOR CAPACITIVE ELEMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100266760(B1) |
申请公布日期 |
2000.10.02 |
| 申请号 |
KR19970017894 |
申请日期 |
1997.05.09 |
| 申请人 |
NEC CORPORATION |
发明人 |
AISO, FUMIKI;HITARO, TOSHIYUKI |
| 分类号 |
H01L27/04;H01L21/02;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L27/108 |
主分类号 |
H01L27/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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