发明名称 一种高分子自粘基质及其应用
摘要 本发明是一种高分子自粘基质及其应用,其特点是在交联剂存在下,聚合物单体基材、溶剂、去离子水、保湿剂、添加剂和引发剂按一定比例混合后倒在背衬层载体上,在25—80℃聚合得到表面具有自粘性的基质。本发明具有贮库一粘贴层一控释层合一的结构,大大简化了目前的骨架控释结构工艺,基质具有无毒、无致敏、贮药量大、可以导电及自粘等优点,可用于制备透皮吸收剂、经皮离子导入剂型,是一种理想的药物基质。
申请公布号 CN1267516A 申请公布日期 2000.09.27
申请号 CN99103062.1 申请日期 1999.03.19
申请人 王英驰 发明人 王英驰
分类号 A61K9/06;A61M37/00 主分类号 A61K9/06
代理机构 北京万科园专利事务所 代理人 张亚军;曹诗健
主权项 1.一种高分子自粘基质,其特征在于在交联剂存在下,聚合物单体基材、溶剂、去离子水、保湿剂、添加剂、引发剂混合制得表面具有自粘性的基质,具体制备过程包括:(1)将聚合物单体基材溶于去离子水中,制得基材溶液;(2)在(1)步基材溶液中加入保湿剂、溶剂、添加剂,充分搅匀,得到混合液;(3)将交联剂加入到(2)步的混合液中,搅匀,得到待聚液;(4)在(3)步的待聚液中加入引发剂,经混匀后倒在背衬层载体上摊平,在25-80℃下聚合0.5-30min,盖上防粘层、切割成型即可,基质厚度为50μm-3.0mm。
地址 100035北京市西城区平安里二号院中科天星应用技术研究所2018室