| 发明名称 |
GAS FEEDING SYSTEM FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTOR AND METHOD OF CONTROLLING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1038048(A2) |
申请公布日期 |
2000.09.27 |
| 申请号 |
EP19990947980 |
申请日期 |
1999.09.14 |
| 申请人 |
GENITECH CO., LTD. |
发明人 |
LEE, KYU-HONG;KANG, WON-GU;KANG, SANG-WON |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/448;C23C16/455;C30B25/14;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/52 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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