| 发明名称 |
Plasma etching method and apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0843336(A3) |
申请公布日期 |
2000.09.27 |
| 申请号 |
EP19970119624 |
申请日期 |
1997.11.10 |
| 申请人 |
SPEEDFAM CO., LTD. |
发明人 |
YANAGISAWA, MICHIHKO;IIDA, SHINYA |
| 分类号 |
C23F4/00;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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