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Una composicion limpiadora antimicrobiana que se quita enjuagando que comprende de 0,1% a 5,0%, aproximadamente, en peso de la composicion limpiadorade un activo atimicrobiano; de 9% a 14%, aproximadamente, en peso de la composicion limpiadora, de un surfactante anionico en donde por lo menos 67%del surfactante anionico se selecciona del grupo que consiste de surfactantes Clase A, surfactantes clases C. y mezclas de éstos; en donde la relacion desurfactantes Clase A a Clase C esde 4:1 a 1,5:1, aproximadamente, y en donde el surfactante anionico total comprendemenos de 50% aproximadamente de la salde amonio de contracation, de 4% a 8%, aproximadamente en peso de la composicion limpiadora, de un agente donante protonico que tiene un indice deactividad biologica Z, superior a 0,75 aproximadamente; un agente mejorador de la suavidad que se selecciona del grupo que consiste de 20% a 70%,aproximadamente, en peso del surfactante anionico, de un cosurfactantemejorador de la suavidad de 0,1% a 1,0% aproximadamente, en peso de lacomposicion limpiadora de un polímero mejorador de la suavidad y medidas de éstos; y de 69,4% a 84,9%, aproximadamente en peso de la composicion limpiadorade agua , en donde la composicion se ajusta a un ph superior a 3,5 aproximadamente e inferior a 4,5 aproximadamente. La composicion se usa enmétodos para limpiar eliminar gérmenes en la piel y reducir la propagacion de bacterias transitorias Gram negativas y Gram positivas utilizando lascomposiciones limpiadoras antimicrobianas que se quitan enjuagando que se describen en la presente invencion.
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