PROCEDIMENTO DI RICRISTALLIZZAZIONE DI FILM DI SILICIO AMORFO CON IRRAGGIAMENTO LASER SEQUENZIALE IN DUE FASI E L'UTILIZZO DI UNA MASCHERA.,申请号IT1999RM00182-传众专利搜索

发明名称	PROCEDIMENTO DI RICRISTALLIZZAZIONE DI FILM DI SILICIO AMORFO CON IRRAGGIAMENTO LASER SEQUENZIALE IN DUE FASI E L'UTILIZZO DI UNA MASCHERA.
摘要
申请公布号	ITRM990182(A1)	申请公布日期	2000.09.25
申请号	IT1999RM00182	申请日期	1999.03.24
申请人	CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE;ENEA ENTE PER LE NUOVE TECNOLOGIE, L'ENERGIA E L'AMBIENTE	发明人	FORTUNATO GUGLIELMO;PECORA ALESSANDRO;MARIUCCI LUIGI;DELLA SALA DARIO;MITTIGA ALBERTO;CARLUCCI ROBERTO;FOGLIETTI VITTORIO
分类号	H01L	主分类号	H01L
代理机构		代理人
主权项
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