| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체 제조장치 중 포토 레지스트 도포장치의 흄 제거장치에 관한 것으로, 커버 어셈블리의 배기관에는 상기 배기관을 통해 배기되는 흄이 걸러짐과 함께 상기 걸러진 흄을 제거하는 흄 필터수단을 착탈가능하게 설치하여 상기 커버 어셈블리 내에서 흄을 원활하게 제거하므로 웨이퍼의 불량이 방지될 뿐만 아니라 수율이 향상되도록 한 것이다. 이를 위해, 본 고안은 웨이퍼(3)가 삽입되는 커버 어셈블리(1)와, 상기 커버 어셈블리(1) 내에 설치되어 웨이퍼(3)가 얹혀짐과 함께 상기 웨이퍼(3)를 가열하도록 열을 발생시키는 열판(2)과, 상기 커버 어셈블리(1)에 설치되어 불필요한 휘발성 물질을 커버 어셈블리(1)의 외부로 배기시키는 배기관(5)을 구비한 포토 레지스트 도포장치에 있어서, 상기 배기관(5)의 소정위치에는 배기관(5)을 통해 배기되는 흄을 걸러내는 흄 필터수단(101)을 착탈가능하게 설치하여서 된 것이다.</p> |
