发明名称 DI WATER CIRCULATION APPARATUS OF WET STATION FOR SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING
摘要 <p>본 고안은 반도체 웨이퍼 세정용 웨트스테이션의 순수순환장치에 관한 것으로, 순수배출라인(17) 상에 순수회수탱크(20)를 설치하고, 그 순수회수탱크(20)와 순수공급라인(16)을 연결하는 연결라인(21)을 설치하며, 그 연결라인(21) 상에 펌프(22)를 설치하여, 순수회수탱크(20)에 회수된 순수(11)의 산농도와 온도가 설정치 이내일때는 펌프(22)로 순수(11)를 펌핑하여 재사용할 수 있도록 되어 있다.</p>
申请公布号 KR20000017242(U) 申请公布日期 2000.09.25
申请号 KR19990002602U 申请日期 1999.02.20
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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