| 发明名称 | 含有环烯烃聚合物及饱和甾族添加剂的光刻胶组合物 | ||
| 摘要 | 一种酸催化正型光刻胶组合物,它可以用193nm波长射线成像,而且可以显影形成高分辨及高抗蚀性的光刻胶结构物,所述组合物可以采用环烯烃聚合物、光敏产酸剂及饱和甾族化合物组份的混合物。所述环烯烃聚合物优选含有:i)带有极性官能团的环烯烃单元;ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元,所述酸不稳定性基团能抑制碱水溶液中的溶解度。 | ||
| 申请公布号 | CN1267001A | 申请公布日期 | 2000.09.20 |
| 申请号 | CN00101869.8 | 申请日期 | 2000.02.04 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | P·R·瓦拉纳斯;R·D·阿伦;T·I·瓦洛;J·奥皮茨;R·A·德彼得罗;M·C·拉森;A·M·梅惠特;J·F·马尼斯卡科;G·M·杰德哈默 |
| 分类号 | G03F7/028 | 主分类号 | G03F7/028 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;谭明胜 |
| 主权项 | 1.一种光刻胶组合物，包含(a)环烯烃聚合物，(b)光敏产酸剂，及(c)饱和甾族化合物组份。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||