发明名称 | 在数据转换器读头中形成极尖的方法以及读/写头 | ||
摘要 | 一种用于磁阻或巨型磁阻读写头中顶极尖宽度控制的顶表面成像技术,在改进的多维控制的工序中采用一多层结构形成厚光致抗蚀剂。为此,用改进的分辨率来为相对厚的上光致抗蚀剂层构图,然后,用上光致抗蚀剂层作为反应离子蚀剂掩模形成中间金属或陶瓷层,接着,在第二RIE工序中,用中间层作为蚀刻掩模形成最底下的厚光致抗蚀剂层。结果,可获得亚微米极尖宽,它具有高外形比和垂直轮廓,以及改进的临界尺寸控制。 | ||
申请公布号 | CN1267053A | 申请公布日期 | 2000.09.20 |
申请号 | CN99123155.4 | 申请日期 | 1999.10.25 |
申请人 | 松下寿电子工业株式会社 | 发明人 | 迈克尔·J·詹尼森;潘威 |
分类号 | G11B5/39 | 主分类号 | G11B5/39 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
主权项 | 1.一种用以在数据转换器读头中形成极尖的方法,包括:提供一基底;在上述基底上形成一第一光致抗蚀剂层;在上述第一光致抗蚀剂层上形成一中间层;在上述中间层上形成一第二光致抗蚀剂层,上述第二光致抗蚀剂层比上述第一光致抗蚀剂层薄;为上述第二光致抗蚀剂层构图,以在其中形成一开口;用上述开口作为掩模,蚀刻上述中间层;用上述中间层作为另一掩模,通过上述开口进一步蚀刻上述第一光致抗蚀剂层;在上述第一光致抗蚀剂层中蚀刻的上述开口中形成上述极尖;和去除上述第一和第二光致抗蚀剂层和上述中间层,以暴露上述极尖。 | ||
地址 | 日本爱媛县 |