| 发明名称 |
A radiation-sensitive resist material and a process for device fabrication using the same |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP1035437(A3) |
申请公布日期 |
2000.09.20 |
| 申请号 |
EP20000301532 |
申请日期 |
2000.02.28 |
| 申请人 |
LUCENT TECHNOLOGIES INC. |
发明人 |
GABOR, ALLEN H.;HOULIHAN, FRANCIS MICHAEL;NALAMASU, OMKARAM |
| 分类号 |
C08K5/00;C08K5/08;C08K5/32;C08L25/18;C08L33/08;C08L33/10;C08L45/00;C08L101/02;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/40;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
C08K5/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
