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发明名称 Charged particle beam lithography apparatus for forming pattern on semi-conductor
摘要
申请公布号 US6121625(A) 申请公布日期 2000.09.19
申请号 US19980087296 申请日期 1998.05.29
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 ITO, HIROYUKI;SOHDA, YASUNARI;SOMEDA, YASUHIRO;NAKAYAMA, YOSHINORI;OKUMURA, MASAHIDE;SATOH, HIDETOSHI
分类号 G03F7/20;C08F10/02;G03F1/16;G03F1/20;H01J37/147;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/304 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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