| 发明名称 |
PLASMA ETCHING PROCESS CHAMBER USE IN MANUFACTURE SEMICONDUCTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR200197642(Y1) |
申请公布日期 |
2000.09.15 |
| 申请号 |
KR20000004250U |
申请日期 |
2000.02.17 |
| 申请人 |
ANAM SEMICONDUCTOR., LTD. |
发明人 |
CHOI, JIN SIK |
| 分类号 |
H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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