发明名称 |
Rhodium bath and process for rhodium deposition |
摘要 |
Es wird ein Rhodiumbad und ein Abscheideverfahren von Rhodium auf einem Substrat mit einer hohen Badausbeute vorgeschlagen, das sich insbesondere zum stromlosen Abscheiden von Rhodium auf weitgehend beliebigen Substraten eignet. Das Bad enthält mindestens eine gut wasserlösliche Rhodiumverbindung sowie Wasser als Lösungsmittel. Als Rhodiumverbindung eignet sich besonders Ammonium-di(Pyridin-2,6-dicarboxylat)-Rhodium(III), RhClx(NH3)6-x,ein Rhodiumacetat, ein Triethylentetaminkomplexes von Rhodiumchlorid oder ein Diethylentriaminkomplexe von Rhodiumchlorid. Die Abscheidung erfolgt bevorzugt bei 80°C bis 90°C bei einem pH-Wert von 8 bis 9. In dem Rhodiumbad ist bevorzugt eine Menge von 1 bis 50 g/l der Rhodiumverbindung lösbar. |
申请公布号 |
EP1035229(A1) |
申请公布日期 |
2000.09.13 |
申请号 |
EP20000103134 |
申请日期 |
2000.02.16 |
申请人 |
ROBERT BOSCH GMBH |
发明人 |
WEBER, LOTHAR;BRINZ, THOMAS;KUTTESCH, EDITH |
分类号 |
C07F15/00;C23C18/42;C23C18/44 |
主分类号 |
C07F15/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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