| 主权项 |
1.一种用于制备聚合物之可聚合组成物,其包含a)至少一烯系不饱和单体或低聚物,和b)0.01-30莫耳%之式(I)起始剂化合物,以成分a)为基准,其中n为0或1;R1,R2,R3分别为NO2,氰基,-C(O)-R7,-OR8,末经取代之C1-C12烷基,或末经取代或经C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,氰基,羟基,羧基,C1-C4烷基胺基或二(C1-C4烷基)胺基取代之苯基;或R2和R3共同与相接之碳原子形成C5-C7环烷基;R7为C1-C8烷基或苯基;R8为C1-C8烷基或经至少一个羟基取代之C2-C8烷基;及R10为C4-C18烷基经由三级碳原子与氮原子键结,苯基或C9-C11苯基烷基;若n为1R11为C1-C12烷基;或R10和R11共同形成C2-C6亚烷基架桥,该架桥为未经取代或经C1-C4烷基取代;R12为氢,未经取代之C1-C4烷基或苯基;但双-(2-氰基-2-丙基)-N-苯基羟基胺除外,及若n=0则R10不同于-CR1R2R3基。2.根据申请专利范围第1项之组成物,其额外地含有一溶剂,其系选自包含水,醇,酯,醚,酮,醯胺,亚,烃和卤化之烃。3.根据申请专利范围第1项之组成物,其中烯系不饱和单体或低聚物系选自包含苯乙烯,经取代苯乙烯,共轭之二烯,丙烯醛,乙酸乙烯酯,(烷基)丙烯系之酸酐,(烷基)丙烯酸之盐,(烷基)丙烯系之酯或(烷基)丙烯醯胺。4.根据申请专利范围第3项之组成物,其中烯系不饱和单体为苯乙烯,-甲基苯乙烯,p-甲基苯乙烯或式CH2=C(Ra)-(C=Z)-Rb化合物,其中Ra为氢或C1-C4烷基,Rb为NH2,O(OH),缩水甘油基,未经取代之C1-C18烷氧基或经羟基取代之C1-C18烷氧基,未经取代之C1-C18烷基胺基,二(C1-C18烷基)胺基,经羟基取代之C1-C18烷基胺基或经羟基取代之二(C1-C18烷基)胺基;Me为单价金属原子,及Z为氧或硫。5.根据申请专利范围第4项之组成物,其中Ra为氢或甲基,Rb为NH2,缩水甘油基,未经取代或经羟基取代之C1-C4烷氧基,未经取代之C1-C4烷基胺基,二(C1-C4烷基)胺基,经羟基取代之C1-C4烷基胺基或经羟基取代之二(C1-C4烷基)胺基;及Z为氧。6.根据申请专利范围第5项之组成物,其中烯系不饱和单体为丙烯酸甲酯,丙烯酸乙酯,丙烯酸丁酯,丙烯酸异丁酯,丙烯酸三级丁酯,丙烯酸羟基乙酯,丙烯酸羟基丙酯,丙烯酸二甲基胺基乙酯,丙烯酸缩水甘油酯,(甲基)丙烯酸甲酯,(甲基)丙烯酸乙酯,(甲基)丙烯酸丁酯,(甲基)丙烯酸羟基乙酯,(甲基)丙烯酸羟基丙酯,(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯,(甲基)丙烯酸缩水甘油酯,丙烯,丙烯醯胺或甲基丙烯醯胺。7.根据申请专利范围第1项之组成物,其中n为0;R1为氰基;R2及R3分别为未经取代之C1-C12烷基或苯基;或R2和R3共同与相接之碳原子形成C5-C7环烷基;R10为C4-C12烷基经由三级碳原子与氮原子键结,C9-C11苯基烷基或苯基。8.根据申请专利范围第1项之组成物,其中n为1;R1为氰基;R2及R3分别为未经取代之C1-C12烷基或苯基;或R2和R3共同与相接之碳原子形成C5-C7环烷基;R10为C4-C12烷基经由三级碳原子与氮原子键结,C9-C11苯基烷基或苯基;或R10和R11共同形成C2-C6亚烷基架桥,该架桥为未经取代或经C1-C4烷基取代;及R12为C1-C4烷基。9.一种使用于制备低聚物、共低聚物、聚合物或共聚物(嵌段或无规共聚物)之方法,其系藉由至少一个烯系不饱和单体或低聚物之自由基聚合作用,该方法包含于50及60℃之间的温度加热根据申请专利范围第1项之组成物及单离反应产物。10.根据申请专利范围第9项之方法,其系使用至少二阶段以制备嵌段共聚物,其包含形成具有烷氧基胺末端基之一般结构式II聚含物其中n,R1,R2,R3,R10,R11及R12为如申请专利范围第1项所定义者,该聚合物含有起始剂基-CR1R2R3且具有氧基胺基实质地相接为末端基,及加入进一步之单体接着藉由加热以形成嵌段共聚物。11.一种由根据申请专利范围第9项之方法获得之聚合物或低聚物。12.一种式(I)化合物n为0或1;R1,R2,R3分别为NO2,氰基,-C(O)-R7,-OR8,未经取代之C2-C12烷基,或未经取代或经C2-C4烷基,C1-C4烷氧基,氰基,羟基,羧基,C1-C4烷基胺基或二(C1-C4烷基)胺基取代之苯基;或R2和R3共同与相接之碳原子形成C5-C7环烷基;R7为C1-C8烷基或苯基;R8为C1-C8烷基或经至少一个羟基取代之C2-C8烷基;及R10为C4-C18烷基经由三级碳原子与氮原子键结,苯基或C9-C11苯基烷基;若n为1R11为C1-C12烷基;或R10和R11共同形成C2-C6亚烷基架桥,该架桥为未经取代或经C1-C4烷基取代;R12为未经取代之C1-C4烷基或苯基;但若n为0则R10不同于-CR1R2R3基,及若R1为CN及R2和R3为甲基,R10并不为苯基;及若n为1,R12为氢,R10为苯基或苯甲基及R11为苯基,R1,R2及R3并不为-C(CH3)2CN,依据式I之化合物并不为13.一种式(IV)化合物其中n为0或1;R1,R2,R3分别为NO2,氰基,-C(O)-R7,-OR8,未经取代之C1-C12烷基,或未经取代或经C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,氰基,羟基,羧基,C1-C4烷基胺基或二(C1-C4烷基)胺基取代之苯基;或R2和R3共同与相接之碳原子形成C5-C7环烷基;R7为C1-C8烷基或苯基;R8为C1-C8烷基或经至少一个羟基取代之C2-C8烷基,及R10为C4-C18烷基经由三级碳原子与氮原子键结,苯基或C9-C11苯基烷基;若n为1R11为C1-C12烷基;或R10和R11共同形成C2-C6亚烷基架桥,该架桥为未经取代或经C1-C4烷基取代;R12为未经取代之C1-C4烷基或苯基;但若n为0则R10不同于-CR1R2R3基,及若R1为CN及R2和R3为甲基,R10并不为苯基;及若n为1,R12为氢,R10为苯基或苯甲基及R11为苯基;R1,R2及R3并不为-C(CH3)2CN,依据式IV之化合物并不为14.一种制备根据申请专利范围第12项式(I)化合物之方法,从式IIIa,IIIb,或IIIc化合物产生CR1R2R3(V)自由基,藉由40至150℃温度加热该等化合物,及于并不影向自由基反应之溶剂下,反应CR1R2R3(V)自由基与式R10NO或 化合物及最后单离反应产物。15.根据申请专利范围第14项之方法,其中自由基来源系为2,2'-偶氮双异丁,2,2'-偶氮双(2-甲基丁),2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊),2,2-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊),1,1'-偶氮双(1-环己),4,4'-偶氮双(4-甲氧基- 2,4-二甲基戊),2,2'-偶氮双(异丁基醯胺)二水合物,2-苯基偶氮-2,4-二甲基-4-甲氧基戊,二甲基-2,2'-偶氮双异丁酸酯,2-(胺基甲醯基偶氮)异丁,2,2'-偶氮双(2,4,4-三甲基戊烷),2,2'-偶氮双(2-甲基丙烷),2,2'-偶氮双(N,N'-二亚甲基异丁基)之自由硷或盐酸盐,2,2'-偶氮双(2-基丙烷)之自由硷或盐酸盐,2,2'-偶氮双2-甲基-N-[1,1-双(羟基甲基)乙基]丙醯胺或2,2'-偶氮双2-甲基-N-[1,1-双(羟基甲基)-2-羟基乙基]丙醯胺。16.一种用于制备聚合物之可聚合组成物,其包含a)至少一个烯不饱和单体或低聚物;b)0.01-30莫耳%之式(IV)化合物,以成分a)为基准,及c)0.01-30莫耳%式(V)自由基的根据申请专利范围第14项之自由基起始剂,以成分a)为基准,n为0或1;R1,R2,R3分别为NO2,氰基,-C(O)-R7,-OR8,未经取代之C1-C12烷基,或未经取代或经C1-C4烷基,C1-C4烷氧基,氰基,羟基,羧基,C1-C4烷基胺基或二(C1-C4烷基)胺基取代之苯基;或R2和R3共同与相接之碳原子形成C5-C7环烷基;R7为C1-C8烷基或苯基;R8为C1-C8烷基或经至少一个羟基取代之C2-C8烷基;及R10为C4-C18烷基经由三级碳原子与氮原子键结,苯基或C9-C11苯基烷基;若n为1R11为C1-C12烷基;或R10和R11共同形成C2-C6亚烷基架桥,该架桥为未经取代或经C1-C4烷基取代;R12为氢,未经取代之C1-C4烷基或苯基;但n=0,则R10不同于-R1R2R3基。 |
