| 主权项 |
1.一种防止形成碗状开口之预清洗装置,该装置用以对具有一开口之一晶片进行一预清洗之制程,包括:一电浆产生器,用以形成一电浆气体,以对该晶片之该开口进行该预清洗之制程;以及一准直管,置于该电浆气体与该晶片之间,用以使该电浆气体通过该准直管,而进行该预清洗制程。2.如申请专利范围第1项所述防止形成碗状开口之预清洗装置,其中该电浆产生器包括感应式电耦电浆(ICP)。3.一种防止接触窗/介层窗开口碗状之预清洗装置,该装置用以对具有一接触窗/介层窗开口之一晶片进行一预清洗之制程,包括:一电浆产生器,用以形成一电浆气体,以对该晶片之该接触窗/介层窗开口进行该预清洗之制程;其特征在于增置一准直管,置于该电浆气体与该晶片之间,用以使该电浆气体通过该准直管,而进行该预清洗制程。4.如申请专利范围第3项所述防止接触窗/介层窗开口碗状之预清洗装置,其中该电浆产生器包括感应式电耦电浆(ICP)。5.一种防止形成碗状开口之预清洗装置,该装置用以对具有一开口之一晶片形成一原始氧化物时,进行去除该原始氧化物之制程,包括:一电浆产生器,用以形成一电浆气体,以对该晶片之该开口进行去除该原始氧化物之制程;以及一准直管,置于该电浆气体与该晶片之间,用以使该电浆气体通过该准直管,而进行去除该原始氧化物之制程。6.如申请专利范围第5项所述防止形成碗状开口之预清洗装置,其中该电浆产生器包括感应式电耦电浆(ICP)。7.一种防止形成碗状开口之预清洗装置,该装置用以对具有一开口之一晶片进行一预清洗之制程,包括:一反应室,具有一晶座支撑该晶片;一电浆产生器,用以在该反应室中形成一电浆气体,以对该晶片之开口进行该预清洗之制程;一电源供应器,用以施加一电压在该电浆产生器,使该电浆产生器产生该电浆气体;以及一准直管,置于该反应室中之该晶片与该电浆气体之间,以该电源供应器施以一负偏压,用以使该电浆气体通过该准直管,而进行该预清洗制程。8.如申请专利范围第7项所述防止形成碗状开口之预清洗装置,其中该电浆产生器包括感应式电耦电浆(ICP)。9.如申请专利范围第7项所述防止形成碗状开口之预清洗装置,其中该电源供应器包括射频(RF)。图式简单说明:第一图A至第一图B系显示接触窗/介层窗开口预清洗之流程剖面图;第二图系显示一种接触窗/介层窗开口预清洗装置之示意图;第三图系显示本发明较佳实施例一种接触窗/介层窗开口预清洗装置之示意图;第四图A至第四图B系显示以第三图之预清洗装置进行接触窗/介层窗开口预清洗之流程剖面图;以及第五图系显示准直管之一俯视图。 |
