发明名称 | 一种气雾剂型含高分子组分的去污上光保护剂 | ||
摘要 | 本发明涉及一种基于非蜡物质的抛光组合物。由聚二甲基硅氧烷6~9份、抗静电剂0.8~1.2份、香精0.2份、溶剂汽油80~90份及高分子材料溶液3~6份组成。经喷涂去污后的材料表面不仅能形成一层光亮的有机硅树脂薄,还能形成一层具韧性和弹性的高分子保护层,并对材料表面微小损伤及擦痕有填平、修补作用,达到去污、上光、保护一次完成的目的。适用于车辆、皮革、家具、家用电器、电镀件及金属等材料表面去污、上光、保护。 | ||
申请公布号 | CN1056167C | 申请公布日期 | 2000.09.06 |
申请号 | CN96120220.3 | 申请日期 | 1996.10.21 |
申请人 | 厦门大学 | 发明人 | 戴李宗 |
分类号 | C09G1/16 | 主分类号 | C09G1/16 |
代理机构 | 厦门大学专利事务所 | 代理人 | 陈永秀;马应森 |
主权项 | 1.一种气雾剂型含高分子组分的去污上光保护剂,含聚二甲基硅氧烷、抗静电剂、香精和溶剂汽油,其特征在于还含有高分子材料溶液,所说的高分子材料溶液为以溶剂汽油为溶剂,含6~10%高分子材料及含有占高分子材料重量1.2%的对苯二酚,所说的高分子材料为聚丁二烯橡胶或异戊橡胶或苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物;各组份的含量(重量份)为6~10%高分子材料溶液3~6份、抗静电剂0.8~1.2份、聚二甲基硅氧烷6~9份、香精0.2份和溶剂汽油80~90份。 | ||
地址 | 361005福建省厦门市思明南路422号 |