发明名称 |
改进的抛光垫及其相关的方法 |
摘要 |
提供具有由一种亲水性材料所形成抛光表面的抛光垫。抛光表面有用热成形方法制备的结构外形。该外形由大和小的结构特征所组成以有利于抛光液的流动以及有利于平滑和平整。 |
申请公布号 |
CN1265618A |
申请公布日期 |
2000.09.06 |
申请号 |
CN98807897.X |
申请日期 |
1998.08.05 |
申请人 |
罗德尔控股公司 |
发明人 |
J·V·H·罗伯斯;C·W·詹金斯;D·B·詹姆斯 |
分类号 |
B24B1/00;B24B7/19;B24B7/30 |
主分类号 |
B24B1/00 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
黄泽雄 |
主权项 |
1.一种抛光垫,它包括一种有以下性质的亲水材料:i.密度大于0.5g/cm3 ii.临界表面张力大于或等于34mN/m;iii.拉伸模量为0.02~5GP;iv.30℃拉伸模量与60℃拉伸模量的比例为1.0~2.5;v.硬度为25~80肖氏D;vi.屈服应力为300~6000psi;vii.拉伸强度为1000~15,000psi;以及viii.断袭伸长率小于或等于500%,该种亲水性材料至少包括一种选自以下基团的结构部分:1.氨酯;2.碳酸酯;3.酰胺;4.酯;5.醚;6.丙烯酸酯;7.甲基丙烯酸;8.丙烯酸;9.甲基丙烯酸;10.砜;11.丙烯酰胺;12.卤素;以及13.氢氧化物,该种亲水性材料有一抛光面,该表面有许多用热成形法形成的结构特征,该结构特征至少有大于0.1毫米的尺寸,以有利于抛光液的流动,并且有利于半导体装置或半导体装置前体的化学-机械抛光。 |
地址 |
美国特拉华 |