发明名称 面光源用板体
摘要 本创作提供一种面光源用板体,系由光透过性高之透光性基板构成,该透光性基板则具有:供自光源出射之光线入射之端面,令所入射之光线反射之反射面,以及令所入射之光线出射之出射面;而供光线入射之端面系形成为向其端边方向呈凹凸状。
申请公布号 TW404532 申请公布日期 2000.09.01
申请号 TW088213712 申请日期 1996.11.04
申请人 星光工业股份有限公司 发明人 西乡隆;谷口照雄;桥冈政芳;冈村充浩;君岛谦二
分类号 F21V8/00;G09F13/20 主分类号 F21V8/00
代理机构 代理人 洪武雄 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼;陈灿晖 台北巿城中区武昌街一段六十四号八楼
主权项 1.一种面光源用板体,其特征为: 该面光源用板体系由光透过性高之透光性基板构 成,该透光性基板具有:供自光源出射光线 入射之端面、将所入射之光线反射之反射面、及 将所入射之光线出射之出射面;上述光线之 入射端面或上述射出面系形成有凹凸部者。2.如 申请专利范围第1项之面光源用板体,其中,供光线 入射之端面系形成为向其端边方向 呈凹凸。3.如申请专利范围第2项之面光源用板体, 其中,上述端面上之凹凸面系形成为曲折状者。4. 如申请专利范围第3项之面光源用板体,其中,上述 端面上之曲折之前端角为60至150范 围。5.如申请专利范围第2项之面光源用板体,其中 ,设有由光反射性树脂构成之反射组件,使 其与上述供光线入射之端面以外之透光性基板之 端面呈相接触状态。6.如申请专利范围第5项之面 光源用板体,其中,上述反射组件系以与反射面相 接触状态设 置者。7.如申请专利范围第2项之面光源用板体,其 中,在上述反射面设有可令光线乱反射之乱反 射部者。8.如申请专利范围第2项之面光源用板体, 其中,在上述反射面设有可令光线乱反射之乱反 射部,同时,在上述出射面设有微小且呈光滑形状 之凸部及/或微小且呈光滑形状之凹部者 。9.如申请专利范围第1项之面光源用板体,系由光 透过性高之透光性基板构成,该透光性基 板具有:供自光源出射之光线入射之端面、令所入 射之光线反射之反射面、以及令所入射之 光线出射之出射面;而在上述反射面设有可令光线 乱反射之乱反射部,同时,在上述出射面 设有微小且呈光滑形状之凸部及/或微小且呈光滑 形状之凹部。10.如申请专利范围第1项之面光源用 板体,系由光透过性高之透光性基板构成,该透光 性基 板具有:供自光源出射之光线入射之端面、令所入 射之光线反射之反射面、以及令所入射之 光线出射之出射面;而以与上述供光线入射之端面 以外之其余端面相接触之状态设有由光反 射性树脂构成之反射组件,使其与透光性基板成一 体成形者。 上述出射面设有微小且呈光滑形状之凸部及/或微 小且呈光滑形状之凹部。11.如申请专利范围第10 项之面光源用板体,其中,上述反射组件系以与透 光性基板之反射 面相接触之状态一体成形者。12.如申请专利范围 第10项之面光源用板体,其中,在上述反射组件之出 射面设有微小且呈 光滑形状之凸部及/或微小且呈光滑形状之凹部者 。图式简单说明: 第一图系使用以往之面光源用板体之面光源装置 其概略剖面说明图。 第二图系提示在反射面形成有复数排呈圆形状之 乱反射部排列之面光源用板体,将其使 用于面光源装置之状态之概略说明图。 第三图系提示在反射面全面形成有乱反射部之面 光源用板体,将其使用于面光源装置之 状态之概略说明图。 第四图系使用在光线入射之端面设置有曲折状凹 凸之实施例一之面光源用板体之面光源 装置概略说明图。 第五图系使用在光线入射之端面设置有曲折状凹 凸之实施例一之面光源用板体之面光源 装置之概略断面图。 第六图系提示实施例一之面光源用板体中,形成在 光线入射之端面之曲折部分之状态局 部说明图。 第七图系本创作实施例二中面光源用板体之局部 说明图。 第八图系提示制造本创作实施例二之面光源用板 体之状态之局部说明图。 第九图系构成本创作实施例三之面光源用板体之 透光性基板之正面图及平面图。 第十图系提示于实施例三之面光源用板体中以与 除有光源靠近而设之端面外之其余之透 光性基板另外3个端面及反射面相接触状态下,将 反射组件形成时之状态之概略剖面图及平 面图。 第十一图系使用实施例三之面光源用板体之面光 源装置之概略剖面图。 第十二图系提示于实施例三之面光源用板体中在 透光性基板之出射面,形成多数微小且 形状光滑之凸部或凹部之状态之局部说明图。 第十三图系提示于实施例三中将有光源靠近而设 之透光性基板之端面,顺沿其端边方向 形成凹凸状之状态之局部说明图。
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