| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE POLYMER HAVING BACKBONE OF CYCLIC STRUCTURE AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100263906(B1) |
申请公布日期 |
2000.09.01 |
| 申请号 |
KR19980020395 |
申请日期 |
1998.06.02 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
CHOI, SANG-JUN |
| 分类号 |
H01L21/027;C08F120/30;C08F220/30;C08F236/20;G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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