| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer Antireflektionsschicht |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE4311761(C2) |
申请公布日期 |
2000.08.31 |
| 申请号 |
DE19934311761 |
申请日期 |
1993.04.08 |
| 申请人 |
MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO |
发明人 |
TSUJITA, KOUICHIROU |
| 分类号 |
G03F7/11;C23C16/34;G03F7/09;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/318;(IPC1-7):G03F7/09;H01L21/312;C23C16/00 |
主分类号 |
G03F7/11 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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