发明名称 Formação de padrão
摘要 <p>"FORMAçãO DE PADRãO" Um precursor, por exemplo, para uma placa de impressão, tem um revestimento de uma composição termosensível, a solubilidade da qual em um revelador aquoso é arranjada para aumentar em áreas aquecidas. A composição contem um composto que aumenta a resistência de áreas não-aquecidas da composição termo-sensível para dissolução em um revelador aquoso, o dito composto sendo selecionado de grupos compreendendo: (A) compostos que incluem uma unidade poli (óxido de alquileno); (B) siloxanos; e (C) ésteres, éteres e amidas de alcoóis poliídricos.</p>
申请公布号 BR9813230(A) 申请公布日期 2000.08.29
申请号 BR19989813230 申请日期 1998.10.26
申请人 KODAK POLYCHROME GRAPHICS COMPANY LTD 发明人 CHRISTOPHER DAVID MCCULLOUGH;KEVIN BARRY RAY;ALAN STANLEY VICTOR MONK;JOHN DAVID RICHES;ANTHONY PAUL KITSON;GARETH RHODRI PARSONS;DAVID STEPHEN RILEY;PETER ANDREW REATH BENNETT;RICHARD DAVID HOARE;JAMES LAURENCE MULLIGAN;JOHN ANDREW HEARSON;CAROLE-ANNE SMITH;STUART BAYES;MARK JOHN SPOWAGE
分类号 G03F7/004;B41C1/10;B41M5/26;B41M5/36;B41M5/40;B41M5/46;G03F7/022;G03F7/075;(IPC1-7):B41M5/36 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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