| 摘要 |
<p>본 고안은 로드 락 운용시 튜브 내의 가스를 배기하기 위한 서브라인이 마련된 프로세스 배기라인에 관한 것으로, 반도체 공정이 실행되는 튜브 및 공정 후 튜브내 가스의 배출을 위한 프로세스 배기라인을 구비한 로드 락 반응로에 있어서, 프로세스 배기가스 라인(50)은 튜브(10) 내의 공정 완료후 반응가스가 배출되는 메인 라인(51)과 로드 락 운용시 튜브(10) 내의 가스의 배기를 위한 서브 라인(53)을 포함하는 것에 의해, 로드 락 운용시 튜브(10) 내의 가스가 로딩 영역(40)으로 배출되는 것을 방지할 수 있다.</p> |
