| 发明名称 |
COMPOSITION PHOTORESISTANTE PRESENTANT UNE EXCELLENTE RESISTANCE A L'EFFET RETARD DE POST-INSOLATION |
| 摘要 |
<P>Réalisation d'une composition photorésistante présentant une excellente résistance à l'effet retard de post-insolation. La composition photorésistante comprend d'une part un polymère photorésistant, et d'autre part un solvant organique qui donnent à la composition une caractéristique d'amincissement de cisaillement.Obtention d'un bon motif photorésistant en présence d'une concentration d'amenée élevée.</P>
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| 申请公布号 |
FR2790114(A1) |
申请公布日期 |
2000.08.25 |
| 申请号 |
FR20000002044 |
申请日期 |
2000.02.18 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO LTD |
发明人 |
JUNG JAE CHANG;LEE GEUN SU;ROH CHI HYEONG;KONG KEUN KYU;BAIK KI HO |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/004;G03F7/38;G03F7/40;H01L21/310;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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