发明名称 ENGRAVING OR EXPOSURE SYSTEM WITH LASER BEAM
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Gravier- oder Belichtungsgerät mit einem Laserstrahl (10) zum Abtasten der Oberfläche einer zu gravierenden oder zu belichtenden Druckform (2). Im Lichtweg des Laserstrahls ist eine Ablenkvorrichtung (6) angeordnet, die aus mehreren einzelnen Ablenksegmenten besteht, die über den Querschnitt des Laserstrahls verteilt angeordnet sind. Jedes Ablenksegment ist einzeln ansteuerbar, um den darauf auffallenden Teilstrahl des Laserstrahls um einen gewünschten Winkel abzulenken. Dadurch ist die Größe und Form jedes einzelnen Rasterpunktes in weitem Umfang frei wählbar.</p>
申请公布号 WO2000048835(A1) 申请公布日期 2000.08.24
申请号 DE2000000286 申请日期 2000.02.01
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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