| 发明名称 | 具有优异的抗后曝光延迟效应的光致抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种具有优异的抗后曝光延迟效应的光致抗蚀剂组合物及一种使用该组合物形成光致抗蚀图案的方法。更具体地说,本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物,其包括(i)光致抗蚀剂聚合物和(ii)赋予光致抗蚀剂组合物剪切稀化特性的有机溶剂,例如非牛顿溶剂;和使用该组合物的光致抗蚀图案的形成。 | ||
| 申请公布号 | CN1264060A | 申请公布日期 | 2000.08.23 |
| 申请号 | CN00102769.7 | 申请日期 | 2000.02.17 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 郑载昌;李根守;卢致亨;孔根圭;白基镐 |
| 分类号 | G03F7/00 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 丁业平;王维玉 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀剂组合物，其包括(i)光致抗蚀剂聚合物和(ii)赋予组合物剪切稀化特性的有机溶剂。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||