| 发明名称 |
Chemical vapour deposition |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IES990123(A2) |
申请公布日期 |
2000.08.23 |
| 申请号 |
IES990123 |
申请日期 |
1999.02.18 |
| 申请人 |
SIFCO RESEARCH & DEVELOPMENT LIMITED |
发明人 |
KENNETH GOVE;AIDAN KENNEDY |
| 分类号 |
C01F7/56;C04B35/599;C23C16/12;(IPC1-7):C23C16/12 |
主分类号 |
C01F7/56 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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