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经营范围
发明名称
SILICON ETCHING PROCESS FOR MAKING MICROCHANNEL PLATES
摘要
申请公布号
EP0980446(A4)
申请公布日期
2000.08.23
申请号
EP19980921054
申请日期
1998.05.08
申请人
NANOSYSTEMS, INC.
发明人
BEETZ, CHARLES, P., JR.;BOERSTLER, ROBERT, W.;STEINBECK, JOHN;WYNN, DAVID, R.
分类号
H01J9/12;B81B1/00;B81C1/00;C25F3/12;H01J9/02;H01J43/24;H01L21/3063;(IPC1-7):C25D5/34;C25D5/48;C25D9/06
主分类号
H01J9/12
代理机构
代理人
主权项
地址
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