磷化铟表面清洁方法

摘要

一种磷化铟表面的清洁方法,包括:1、将磷化铟材料器件置入真空度为10^－5Pa的真空室中;2、按一定的比率将氢气、氮气、氩气混合后通入淀积室(真空室);3、给磁场线圈通入一定的电流,在淀积室中形成875Guss左右的磁场;4、将一定功率、频率为13.56MHz的微波导入淀积室;5、在微波和磁场共同作用下,产生混合气体的等离子体,持续10—40分钟,清洁低温下的材料表面。清洗工艺的过程中,通过抽真空设备,一直保持淀积室有0.2—1.30Pa的低真空。

主权项

1、一种磷化铟表面的清洁方法，其特征在于：1)将磷化铟材料器件置入真空室中，然后，用抽真空设备将真空室的本底真空度抽至10-5Pa数量级及以上；2)按一定的比率将氢气、氮气、氩气混合后通入淀积室(真空室)；3)给磁场线圈通入一定的电流，在淀积室中形成875Guss左右的磁场；4)将一定功率、频率为13.56MHz的微波导入淀积室；5)在微波和磁场共同作用下，产生混合气体的等离子体，持续10-40分钟，清洁低温下的材料表面；其中：清洗工艺的过程中，通过抽真空设备，一直保持淀积室有0.2-1.30Pa的低真空。