| 发明名称 |
Method of an apparatus for sputtering |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG74667(A1) |
申请公布日期 |
2000.08.22 |
| 申请号 |
SG19980004360 |
申请日期 |
1994.07.26 |
| 申请人 |
ASAHI GLASS COMPANY LTD. |
发明人 |
SHIMIZU JUNICHI;WATANABE SHUJIRO;TAKAKI SATORU;OSAKI HISASHI;OYAMA TAKUJI;ANDO EIICHI |
| 分类号 |
C03C17/00;C03C17/22;C03C17/245;C03C17/34;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/34;C23C14/35;G02F1/1343;H01B1/08;(IPC1-7):C23C14/38 |
主分类号 |
C03C17/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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