发明名称 |
Physical vapor deposition poly-p-phenylene sulfide film as a bottom anti-reflective coating on polysilicon |
摘要 |
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申请公布号 |
SG74647(A1) |
申请公布日期 |
2000.08.22 |
申请号 |
SG19980002925 |
申请日期 |
1998.08.07 |
申请人 |
CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD |
发明人 |
HUI YE JIAN;SHENG ZHOU MEI |
分类号 |
G03F7/09;H01L21/027;H01L21/3213;(IPC1-7):G03F7/26 |
主分类号 |
G03F7/09 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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