非晶形沈淀氧化矽磨料

摘要

一种包含颜料相粒子与玻璃相粒子、且具有玻璃相分率范围由0．3至30面积百分比的统计学上大群集之非晶形沈淀氧化矽粒子，其可充作洁牙组合物、尤其系牙膏用之磨料。

主权项

/AIT{1.一种统计学上大群集之非晶形沈淀氧化矽粒 子,其包含颜料相粒子及玻璃相粒子, 并具有介于0.3至30面积百分比范围内之玻璃相分 率。} /AIT{2.根据申请专利范围第1项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其具有:} /ait{(a)30至400m2g范围内之表面积;及} /ait{(b)60至200cm3100g范围内之DBP吸油率。} /AIT{3.根据申请专利范围第1项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其中以该统计 学上大群集之非晶形沈淀氧化矽粒子之体积计之 中间粒子大小,系介于2至50微米之范围内 。} /AIT{4.根据申请专利范围第3项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其中:} /ait{(a)至少90体积百分比之该统计学上大群集之非 晶形沈淀氧化矽粒子具有低于100微米 之粒子大小;且} /ait{(b)至少90体积百分比之该统计学上大群集之非 晶形沈淀氧化矽粒子具有高于0.5微米 之粒子大小。} /AIT{5.根据申请专利范围第1项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其中以该统计 学上大群集之非晶形沈淀氧化矽粒子之体积计之 中间粒子大小,系介于2至20微米之范围内 。} /AIT{6.根据申请专利范围第5项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其中:} /ait{(a)至少90体积百分比之该统计学上大群集之非 晶形沈淀氧化矽粒子具有低于50微米之 粒子大小;且} /ait{(b)至少90体积百分比之该统计学上大群集之非 晶形沈淀氧化矽粒子具有高于0.5微米 之粒子大小。} /AIT{7.根据申请专利范围第1项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其具有介于 0.4至10面积百分比范围内之玻璃相分率。} /AIT{8.根据申请专利范围第1项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其具有介于 0.5至5面积百分比范围内之玻璃相分率。} /AIT{9.根据申请专利范围第1项之统计学上大群集 之非晶形沈淀氧化矽粒子,其中该玻璃相 粒子中至少一部份具有一或多种选自下列之形态 学:} /ait{(a)具有波痕及/或皱纹之适当厚度片型;} /ait{(b)圆化等边块状物;及} /ait{(c)薄脆膜。} /AIT{10.一种洁牙组合物,其包含根据申请专利范围 第1项之统计学上大群集之非晶形沈淀 氧化矽粒子。} /AIT{11.根据申请专利范围第10项之洁牙组合物,其 中该统计学 上大群集非晶形沈淀氧化矽粒子,系构成该洁牙组 合物 之3至80重量百分比。} /AIT{12.根据申请专利范围第11项之洁牙组合物,其 系为牙膏。} /AIT{13.根据申请专利范围第12项之洁牙组合物,其 中该牙膏具有介于40至250范围内之RDA 。} /AIT{14.一种洁牙组合物,其包含根据申请专利范围 第7项之统计学上大群集之非晶形沈淀 氧化矽粒子。} /AIT{15.根据申请专利范围第14项之洁牙组合物,其 中该统计学上大群集之非晶形沈淀氧化 矽粒子,系构成该洁牙组合物之3至80重量百分比。 } /AIT{16.根据申请专利范围第15项之洁牙组合物,其 系为牙膏。} /AIT{17.根据申请专利范围第16项之洁牙组合物,其 中该牙膏具有介于40至250范围内之RDA 。} /AIT{18.一种洁牙组合物。其包含根据申请专利范 围第8项之统计学上大群集之非晶形沈淀 氧化矽粒子。} /AIT{19.根据申请专利范围第18项之洁牙组合物,其 中该统计学上大群集之非晶形沈淀氧化 矽粒子,系构成该洁牙组合物之3至80重量百分比。 } /AIT{20.根据申请专利范围第19项之洁牙组合物,其 系为牙膏。} /AIT{21.根据申请专利范围第20项之洁牙组合物,其 中该牙膏具有介于40至250范围内之RDA 。} /AIT{22.一种制造具有玻璃相分率在0.3至30面积百分 比范围内之统计学上大群集之非晶形 沈淀氧化矽粒子之方法,该方法包括:} /ait{(a)建立含有每升0.48至1.05莫耳M₂且具 有SiI₂GM₂莫耳比为2.0至3.7之 最初硷金属矽酸盐水溶液;} /ait{(b)于15至150分钟期间及于搅拌下,在80℃至99℃ 之温度下添加酸至该最初硷金属矽 酸盐水溶液中,以中和10至80百分比存在于该最初 硷金属水溶液中之M₂,于是形成第一 种反应混合物;} /ait{(c)在80℃至99℃之温度下搅拌该第一种反应混 合物10至90分钟,使其熟化;} /ait{(d)在80℃至99℃之温度下,于搅拌下添加酸至该 经熟化之第一种反应混合物中,以中 和存在之M₂,及形成第二种反应混合物;} /ait{(e)由该第二种反应混合物之大部分液体中分 离出统计学上大群集之非晶形沈淀氧化矽 粒子;} /ait{(f)以水洗涤分离后之统计学上大群集之非晶 形沈淀氧化矽粒子;及} /ait{(g)乾燥经洗涤之统计学上大群集之非晶形沈 淀氧化矽粒子,} /ait{其中:} /ait{(h)该硷金属矽酸盐为矽酸锂、矽酸钠、矽酸 钾或其混合物;且} /ait{(i)M为锂、钠、钾或其混合物。} /AIT{23.根据申请专利范围第22项之方法,其中该经 乾燥之统计学上大群集之非晶形沈淀氧 化矽粒子,系经研磨。} /AIT{24.根据申请专利范围第22项之方法,其中:} /ait{(a)该最初硷金属矽酸盐水溶液为含有每升0.5 至0.8莫耳Na₂且具有SiO₂br> Na₂莫耳比为2.5至3.7之矽酸钠水溶液;} /ait{(b)于30至90分钟期间及于搅拌下,在90℃至98℃ 之温度下添加硫酸于该最初矽酸钠水 溶液中,以中和15至35百分比存在于该最初矽酸金 水溶液中之Na₂,于是形成第一种反 应混合物:} /ait{(c)在90℃至98℃之温度下搅拌该第一种反应混 合物30至60分钟,使其熟化;及} /ait{(d)在90℃至98℃之温度下,于搅拌下添加硫酸至 该经熟化之第一种反应混合物中,以 中和存在之Na₂,而形成该第二种反应混合 物。} /tt 第一图为一显微照片,其显示实例1非晶形沈淀氧 化矽产物 被分散于具有折射率n_D^{25为1.5500. 0002之油中之影 像。 第二图为一显微照片,其显示实例1非晶形沈淀氧 化矽产物被 分散于配合折射率浸渍油中之影像。