| 摘要 |
<p>Bei einer Vorrichtung zum Messen der Temperatur von Substraten, insbesondere von Halbleiterwafern, mit mindestens einem Strahlungsdetektor zur Messung der vom Substrat emittierten Strahlung und einem das Sichtfeld des Strahlungsdetektors einschränkenden Element (19), das zwischen dem Substrat und dem Strahlungsdetektor angeordnet ist, ergibt sich eine korrekte Bestimmung der Substrattemperatur auch bei Vibrationen bzw. Verkippungen des Substrats auf einfache Weise mit geradlinig verlaufenden Rändern (20) des Elements. Ein entsprechendes Verfahren ist ebenfalls angegeben.</p> |
