发明名称 |
Photoinitiierung der Sulfochlorierung oder Sulfoxidation von Alkanen durch UV-Excimer-Strahlung zur Herstellung von Alkansulfochloriden und Alkansulfonaten |
摘要 |
Verfahren zur Herstellung von Alkansulfochloriden und Alkansulfonaten durch Umsetzung von Alkanen mit SO¶2¶ und Cl¶2¶ oder O¶2¶ zu Alkansulfochloriden oder Alkansulfonaten, wobei die Reaktion durch UV-Excimer-Strahlung photoinitiiert wird. Geeignete Wellenlängen der UV-Excimer-Strahlung liegen im Bereich von 150-470 nm. DOLLAR A Vorzugsweise werden folgende Wellenlängen (Ecimere) verwendet: 172 nm (Xe¶2¶·*·), 193 nm (ArF·*·), 222 nm (KrCl·*·), 248 nm (KrF·*·) 282 nm (XeBr·*·), 291 (Br¶2¶·*·), 308 nm (XeCl·*·), 342 nm (I¶2¶·*·), 351 nm (XeF·*·).
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申请公布号 |
DE19905613(A1) |
申请公布日期 |
2000.08.17 |
申请号 |
DE19991005613 |
申请日期 |
1999.02.11 |
申请人 |
AVENTIS RESEARCH & TECHNOLOGIES GMBH & CO KG |
发明人 |
HAGEMEYER, ALFRED;KUEHLEIN, KLAUS |
分类号 |
C07B45/02;C07C303/10;C07C303/14;C07C309/04;C07C309/80;(IPC1-7):C07C303/14;B01J19/12 |
主分类号 |
C07B45/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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